电脑教程光刻机的原理和分类 光刻机的原理和分类 光刻机利用掩模版、光源和透镜，将设计图案转移到晶圆表面，创建半导体芯片电路。光刻机根据所用光源和分辨率分类为：紫外光刻机：使用紫外线光源，分辨率为 22-95 纳米。极紫外光刻机：使用极紫外线光源，分辨率低于 5 纳米。电子束光刻机：使用电子束，分辨率为几纳米... app 4个月前 (11-04) 1℃ 0喜欢
