光刻机的分类和参数表
光刻机分为两类：接触式（直接接触掩模和晶圆）和投影式（将掩模图案投影到晶圆）。光刻机参数包括分辨率、深度聚焦、对准精度、重复精度、曝光场大小、光源波长、模板类型、通量、引线时间和造价。

光刻机的分类

光刻机根据其曝光方式可分为接触式和投影式两类。

接触式光刻机：透镜直接接触掩模和晶圆，将掩模上的图案转移到晶圆上。精度较高，但只适用于掩模和晶圆尺寸较小的场合。投影式光刻机：透镜将掩模上的图案缩小投影到晶圆上，精度较低，但适用于掩模和晶圆尺寸较大的场合。

光刻机的参数表

分辨率能够分辨的最小特征尺寸纳米 (nm)深度聚焦允许的晶圆厚度偏差微米 (µm)对准精度掩模与晶圆对准的精度纳米 (nm)重复精度多次曝光时图案重复对齐的精度纳米 (nm)曝光场大小每次曝光可以覆盖的晶圆面积毫米 (mm)光源波长用于曝光的光源波长纳米 (nm)模板类型使用的掩模类型二进制、相移等通量每秒曝光的像素数量个 / 秒引线时间订购到交付所需的时间月造价光刻机购买成本美元

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